Übersicht
Der CF4-Infrarot-Gasanalysator (Tetrafluormethan) nutzt hochpräzise Infrarot-Absorptionstechnologie (NDIR). Er findet breite Anwendung in der Halbleiter- und Flachbildschirmfertigung (Plasmaätzen und Reinigung von CVD-Kammern), bei der Mischung von Spezialgasen für die Elektronikindustrie, der fluorchemischen Synthese sowie bei der Analyse von SF6/CF4-Isoliergasen für Stromnetze. Er liefert präzise Online-Messungen der CF4-Konzentration in Prozessgasen und Abgasleitungen, optimiert Ätzprozesse, überwacht Reinigungszyklen der Kammer und bewertet die Zerstörungs- und Entfernungseffizienz (DRE) von Treibhausgasminderungssystemen.
Prinzip
Verschiedene mehratomige Gase (CO, CO2, CH4 usw.) absorbieren Infrarotlicht nicht über das gesamte Spektrum hinweg, sondern nur in bestimmten Bereichen, den sogenannten charakteristischen Absorptionsbanden. Unterschiedliche Gase weisen jeweils spezifische Absorptionswellenlängen im Infrarotbereich auf. Infrarot-Photometer basieren auf dieser Eigenschaft bestimmter Gase, Infrarotstrahlung bei spezifischen Wellenlängen selektiv zu absorbieren. Wenn Infrarotlicht ein Gasgemisch durchstrahlt, absorbiert die zu messende Gaskomponente einen Teil der Strahlungsenergie; gemäß dem Lambert-Beerschen Gesetz lässt sich die Gaskonzentration anhand der Änderung der Lichtintensität bestimmen.
Anwendungen
• Halbleiter- und Flachbildschirmfertigung
Überwachung von Plasmaätzprozessen: Kontinuierliche Überwachung der Konzentration und Stabilität des CF4-Einspeisegases, das in Systemen zum Plasmaätzen von Dielektrika und Silizium verwendet wird.
Optimierung der CVD-Kammerreinigung: Echtzeitanalyse von CF4-Abgasprofilen während der Reinigung von CVD-Kammern (Chemical Vapor Deposition) zur Bestimmung der Reinigungsendpunkte, wodurch Gasverbrauch und Anlagenstillstandszeiten reduziert werden.
• Minderung von PFC-Treibhausgasemissionen & Einhaltung von Umweltauflagen
Überprüfung der Zerstörungs- und Abscheideeffizienz (DRE): Messung von CF4-Konzentrationen (im Prozentbereich) am Ein- und Ausgang thermischer oder plasmabasierter Abgasreinigungssysteme (Scrubber) zur Berechnung der DRE und zur Einhaltung von Vorgaben zur Reduzierung von Treibhausgasen.
Erfassung des CO2-Fußabdrucks: Quantifizierung von PFC-Emissionen (perfluorierte Kohlenwasserstoffe) aus Halbleiterfabriken und Elektronikfertigungsstätten für die CO2-Bilanzierung.
• Herstellung und Mischung von Spezialgasen für die Elektronikindustrie
Überprüfung von Prozessgasmischungen: Qualitätskontrolle in Echtzeit bei kundenspezifischen Prozessgasmischungen (z. B. CF4/O2, CF4/Ar oder CF4/He), die in der Präzisionsfertigung von Mikroelektronik eingesetzt werden.
Qualitätskontrolle von Fluorchemikalien: In-line-Reinheitsanalyse von CF4-Großmengen während der chemischen Synthese, Destillation und Flaschenabfüllung in Anlagen der Spezialchemie.
• Energieübertragung & Hochspannungs-Isoliergas
Analyse von SF6/CF4-Gasmischungen: Messung des Mischungsverhältnisses von SF6/CF4-Gasgemischen, die als Isolier- und Lichtbogenlöschmedien in Hochspannungsanlagen (z. B. gasisolierte Schaltanlagen – GIS) für extrem kalte Umgebungen verwendet werden.
Messkomponenten und Messbereiche
• CF4: 0 ~ 100 Vol.-%
Weitere Informationen finden Sie im Infrarotanalysator.