概述
微量（ppm 级）NH3 气体分析仪用于痕量氨气的连续定量监测，广泛应用于燃煤电厂与水泥厂脱硝（SCR/SNCR）氨逃逸监测、半导体超高纯气杂质分析、化肥与合成氨工艺控制及冷库氨泄漏预警。可精准测量烟气、高纯原料气及环境空气中的微量 NH3 浓度，用以防止设备硫酸氢铵堵塞与腐蚀、保证半导体晶圆良率、评估脱硝效率并确保安全生产。
工作原理
高精度激光吸收光谱技术的测量原理，基于待测分子对特定波长光的吸收。
根据待测气体分子选择不同波长的激光二极管光源，通过在探测器端测量透射光（I）和入射光（I0）的强度（依据朗伯-比尔定律），即可获知测量室内的当前气体浓度。
应用
• 脱硝（DeNOx）氨逃逸监测 (SCR/SNCR)
火电厂与水泥厂烟气：对催化反应后的烟气中痕量 NH₃（氨逃逸）进行连续实时测量，以优化喷氨量并最大限度降低 NOx 排放。
设备保护：防止生成硫酸氢铵 (ABS)，该物质会导致下游空气预热器和静电除尘器发生严重堵塞与腐蚀。
• 沼气与生物甲烷净化
生物甲烷入网质量：持续监测提纯后生物甲烷中的痕量氨，以符合燃气管网入网及车用燃料标准（防止管道腐蚀及燃烧产生氮氧化物排放）。
沼气提纯工艺控制：测量生物法或化学法脱硫及洗涤装置后的氨逃逸（NH₃ slip），以评估洗涤效率。
• 半导体与高纯气体质量控制
电子级气体纯度：检测晶圆制造所用氮气 (N₂)、氢气 (H₂) 及惰性气体中 ppb/ppm 级的氨杂质，以防止化学污染。
洁净室空气质量：监测洁净室环境空气中的空气分子污染物 (AMC)，以保障光刻工艺安全。
• 化学合成与化肥生产
哈伯-博施 (Haber-Bosch) 工艺控制：监测尿素或硝酸铵生产线中未反应合成回路及尾气内的痕量氨。
催化剂性能追踪：评估氨相关化学反应器中催化剂的转化效率及使用寿命。
• 制冷与安全监测
工业冷库：针对大型氨 (R717) 制冷厂及食品加工设施进行高灵敏度泄漏检测。
农业排放：测量畜禽废弃物处理及农业排放过程中的氨浓度，以满足环境报告要求。
测量范围
• NH3: 0~ 10 至 to1000ppm
详细介绍请参见激光分析仪。